侵犯知识产权最高判10年！武汉将重点打击涉及高新技术类侵权犯罪
3月1日起，新施行的《刑法修正案》（十一）明确知识产权类犯罪最高刑提至十年，并新增“商业间谍罪”。
市中院武汉知识产权审批庭庭长尹为表示，武汉将加强对重点技术领域的知识产权犯罪打击力度，重点打击涉及高新技术、关键核心技术以及网络侵权、链条式产业化有组织侵权等严重侵权假冒犯罪。
据悉，刑法修正案增加了对“服务商标”的保护，并根据前不久刚刚修改的著作权法，对涉及侵犯著作权或者与著作权有关权利犯罪行为的规定进行了修改，加强对侵犯著作权行为的打击力度。对于侵犯商业秘密的犯罪行为类型进行了补充，新增“商业间谍罪”。
涉及知识产权部分的修改共有8处，修改的部分主要是加大了对侵犯注册商标权、著作权、商业秘密的打击力度。此外，侵权单位的负责人也将面临处罚。
如第二百一十三条修改为：“未经注册商标所有人许可，在同一种商品、服务上使用与其注册商标相同的商标，情节严重的，处三年以下有期徒刑，并处或者单处罚金；情节特别严重的，处三年以上十年以下有期徒刑，并处罚金。”
第二百一十四条修改为：“销售明知是假冒注册商标的商品，违法所得数额较大或者有其他严重情节的，处三年以下有期徒刑，并处或者单处罚金；违法所得数额巨大或者有其他特别严重情节的，处三年以上十年以下有期徒刑，并处罚金。”
第二百一十五条修改为：“伪造、擅自制造他人注册商标标识或者销售伪造、擅自制造的注册商标标识，情节严重的，处三年以下有期徒刑，并处或者单处罚金；情节特别严重的，处三年以上十年以下有期徒刑，并处罚金。”
与侵犯著作权相关的修改有：以营利为目的，有下列侵犯著作权或者与著作权有关的权利的情形之一，违法所得数额较大或者有其他严重情节的，处三年以下有期徒刑，并处或者单处罚金；违法所得数额巨大或者有其他特别严重情节的，处三年以上十年以下有期徒刑，并处罚金等。
有下列侵犯商业秘密行为之一，情节严重的，处三年以下有期徒刑，并处或者单处罚金；情节特别严重的，处三年以上十年以下有期徒刑，并处罚金等。
关于单位侵犯知识产权，对单位判处罚金，并对其直接负责的主管人员和其他直接责任人员，依照各条的规定处罚。nb
